Universal-200 D 是基于8455新澳门路线网址app自主知识产权创新技术开发的成熟8英寸CMP设备。该设备配备性能优越的抛光单元及清洗单元,集成多种先进终点检测技术,适用于多种材质,可实现晶圆表面的超高平整度,满足成熟制程技术需求,已在大硅片、第三代半导体、MEMS、Micro LED等制造工艺中批量应用。
多分区抛光头
可实现产品干进干出
满足成熟制程技术需求